氮化硅長期以來一直用于高溫應用。 特別是，它被確定為少數(shù)能夠承受氫/氧火箭發(fā)動機產生的嚴重熱沖擊和熱梯度的整體陶瓷材料之一。 氮化硅在制造集成電路中經常用作絕緣體和化學屏障氮化硅的一些關鍵特性包括：低密度、優(yōu)異的抗熱震性、良好的抗氧化性、抗機械疲勞性和高